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半導體與電子製造之 AI 視覺檢測的發展與應用
發佈日期：2025-04-16
半導體與電子製造之 AI 視覺檢測的發展與應用
AI 模型建構自動化，提升瑕疵檢出效率與系統導入速度
面對製造業日益提升的品質要求與人力成本壓力，如何導入高效、彈性且易於維護的視覺檢測方案，已成為企業轉型智慧製造的關鍵課題。本次研討會誠摯邀請韓國 Neurocle 原廠 AI 專家 黃採鉉 (황채현) 蒞臨分享，深入解析 Neurocle 自主深度學習視覺檢測軟體架構於實務檢測場景的應用策略。從 AI 技術發展趨勢、模型建構方法，到半導體、面板與電子產業的成功案例，完整呈現自主深度學習技術在實務中的應用。
主題 1 AI 技術趨勢與產業挑戰——自動深度學習軟體的角色
隨著AI視覺檢測技術的發展，介紹在實際應用中，
主題 2 解決視覺檢測問題的核心功能介紹
GAN、Patch Classification模型、AI自動標註、訓練庫的應用，從深度學習模型構建到數據處理，
主題 3 應用實例分享
深入解析自主深度學習於半導體、面板與電子產業的導入成效與最佳實踐策略。
隨著AI視覺檢測技術的發展，介紹在實際應用中，
主題 2 解決視覺檢測問題的核心功能介紹
GAN、Patch Classification模型、AI自動標註、訓練庫的應用，從深度學習模型構建到數據處理，
主題 3 應用實例分享
深入解析自主深度學習於半導體、面板與電子產業的導入成效與最佳實踐策略。
講師陣容
活動議程
活動地點
IEAT會議中心 1003 會議室
台北市中山區松江路350號 (近捷運行天宮站四號出口)
台北市中山區松江路350號 (近捷運行天宮站四號出口)
注意事項
- 本活動報名截止日 05/09 (五)。主辦單位將視報名狀況提前或延後線上報名時間。
- 本活動採預先線上報名並完成登錄手續，不開放現場報名，請勿偽造他人身份資料進行報名以免觸法，主辦單位保留報名資格之最後審核權利。
- 本活動將由主辦單位進行出席資格審核，與主題及屬性符合者為優先考量。
- 通過審核者，系統將於報名後一週內以電子郵件方式寄發報到通知至您的電子信箱。